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雪中炭 XT5218B12-R25C 低溫恒溫循環器

2018-09-18 09:04:36 admin 325

     低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

 

低溫恒溫循環器特別適用與化學反應釜、發酵罐、旋轉蒸發器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。


低溫恒溫循環器主要特點


風冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。

微機智能控制,溫度精確溫度。

數顯分辨率0.1℃或0.01℃,具有溫度測量值偏差修正功能。

溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。

制冷系統過熱、過流自動保護。


XT5218B系列高低溫恒溫循環器采用全封閉磁力泵循環攪拌實現高精度恒溫,溫場均勻,免除泄露和異常噪聲,同時提供外循環恒溫,最佳溫度波動度達到±0.05℃;自由設定的上電自動啟動模式和待機模式,額外確保循環裝置的安全操作并免除停電干擾。(詳情點擊:XT5218B系列高低溫恒溫循環器

高低溫恒溫循環器.jpg


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